| 物質名 |
試料種類 |
分析方法 |
管理濃度(a) |
許容濃度(b) |
ACGIH-TLVs(TWA)(c) |
| A-1 |
遊離けい酸 |
気中、個人曝露 |
X線回折(再発じん法) |
E(mg/m3) |
0.03(I)(mg/m3) |
0.025(R)(mg/m3) |
| 堆積じん |
| A-2 |
石綿(繊維数) |
気中、個人曝露 |
位相差顕微鏡 |
0.15(f/cm3) |
クリソタイルのみの時
0.15/0.015**(F/mL) |
0.1(F) (f/cc) |
クリソタイル以外の石綿を含む時
0.03/0.003**(F/mL) |
| A-3 |
建材等石綿(定性) |
建材等 |
位相差顕微鏡・X線回折法(JIS法) |
| A-4 |
建材等石綿(定量) |
建材等 |
X線回折(JIS法) |
| A-5 |
粒子状物質の形態及び元素分析 |
粉じん |
走査型電子顕微鏡 |
| A-6 |
鉛及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.05(mgPb/m3) |
0.1(mgPb/m3) |
0.05(mgPb/m3) |
| A-7 |
クロム(クロム酸、重クロム)及びその塩 |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.05(mgCr/m3) |
(金属、3価)
0.5(mgCr/m3)
(6価)
0.05(mgCr/m3)
(特定の6価)
0.01(mgCr/m3) |
(金属、3価)
0.5(mgCr/m3)
(水溶性6価)
0.05(mgCr/m3)
(非水溶性6価)
0.01(mgCr/m3) |
| A-8 |
マンガン及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.2(mgMn/m3) |
0.2(mgMn/m3) |
(0.2)(mgMn/m3) |
| A-9 |
カドミウム及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.05(mg/m3) |
0.05(mgCd/m3) |
0.01/0.002(R)(mgCd/m3) |
| A-10 |
水銀及びその無機化合物 |
気中、個人曝露 |
還元気化AAS |
0.025(mgHg/m3) |
(蒸気)
0.025(mg/m3) |
0.025(mgHg/m3) |
| A-11 |
砒素及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
還元気化AAS |
0.003(mgAs/m3) |
3/0.3**(μgAs/m3) |
0.01(mgAs/m3) |
| A-12 |
セレン及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.1(mgSe/m3) |
0.2(mgSe/m3) |
| A-13 |
ベリリウム及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
蛍光光度法 |
0.002(mg/m3) |
0.002(mgBe/m3) |
0.00005(I)(mgBe/m3) |
| A-14 |
インジウムおよびその化合物 |
気中、個人曝露 |
ICP/MS |
0.1***(mg/m3) |
0.1(mgIn/m3) |
| A-15 |
ニッケル及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AASまたはICP/MS |
0.1 (mgNi/m3) |
(精錬粉塵)
10/1**(μgNi/m3)
(水溶性)
(0.01)(mgNi/m3)
(非水溶性)
(0.1)(mgNi/m3) |
(金属)
1.5(mgNi/m3)
(水溶性)
0.1(mgNi/m3)
(非水溶性)
0.2(mgNi/m3)
(亜硫化ニッケル)
0.1(mgNi/m3) |
| A-16 |
コバルト及びその化合物 |
気中、個人曝露 |
AASまたはICP/MS |
0.05(mgCo/m3) |
0.02(mgCo/m3) |
| A-17 |
五酸化バナジウム |
気中、個人曝露 |
AAS |
0.03(mgV/m3) |
0.05(mg/m3) |
(0.05)(I)(mgV/m3) |
| A-18 |
酸化チタン |
気中、個人曝露 |
AAS |
10(mg/m3) |
| A-19 |
金属類 |
気中、個人曝露 |
AASまたはICP/MS |
| A-20 |
コールタール |
気中、個人曝露 |
重量法 |
0.2(mg/m3) |
0.2(mg/m3) |
| A-21 |
α-ナフチルアミン、(およびβ-ナフチルアミン) |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
| A-22 |
MOCA
(4,4'-ジアミノー3,3'-ジクロロジフェニルメタン) |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
0.005(mg/m3) |
0.005(mg/m3) |
0.01(ppm) |
| A-23 |
ο-フェニレンジアミン |
気中、個人曝露 |
GC(NPD) |
0.1(mg/m3) |
0.1(mg/m3) |
| A-24 |
エチレンジアミン |
気中、個人曝露 |
GC(NPD) |
10(ppm) |
10(ppm) |
| A-25 |
ヒドラジンおよびその水和物 |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.1(ppm) |
0.01(ppm) |
| A-26 |
オーラミン・マゼンタ |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-27 |
ο-トルイジン |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
1(ppm) |
2(ppm) |
| A-28 |
TDI (2,4-/2,6-トルエンジイソシアネート) |
気中、個人曝露 |
HPLC(Flu) |
0.005(ppm) |
0.005/0.02*(ppm) |
(0.005)(ppm) |
| A-29 |
MDI (4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート) |
気中、個人曝露 |
HPLC(Flu) |
0.05(mg/m3) |
0.005(ppm) |
| A-30 |
TDI+MDI |
気中、個人曝露 |
HPLC(Flu) |
| A-31 |
HDI (ヘキサメチレンジイソシアネート) |
気中、個人曝露 |
HPLC(Flu) |
0.005(ppm) |
0.005(ppm) |
| A-32 |
ホルムアルデヒト |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.1(ppm) |
0.1/0.2*(ppm) |
0.3(C)(ppm) |
| A-33 |
アセトアルデヒト |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
50*(ppm) |
25(C)(ppm) |
| A-34 |
グルタルアルデヒト |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.03*(ppm) |
0.05(C)(ppm) |
| A-35 |
アルデヒト(16成分以内)(スペルコ) |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-36 |
アンモニア |
気中、個人曝露 |
IC |
25(ppm) |
25(ppm) |
| A-37 |
酸化エチレン(別名:エチレンオキシド) |
気中、個人曝露 |
GC(ECD)またはGC/MS |
1(ppm) |
1(ppm) |
1(ppm) |
| A-38 |
プロピレンオキシド |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
2(ppm) |
| A-39 |
スチレンオキシド(別名:フェニルオキシラン) |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
| A-40 |
アクリルアミド |
気中、個人曝露 |
GC(NPD) |
0.1(mg/m3) |
0.1(mg/m3) |
0.03(IFV)(mg/m3) |
| A-41 |
ホルムアミド |
気中、個人曝露 |
GC(FIDまたはNPD) |
10(ppm) |
| A-42 |
有機溶剤(1成分) |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
| A-43 |
有機溶剤(2成分以上) |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
| A-44 |
有機溶剤(1成分)(3M、スペルコ等) |
個人曝露 |
GC(FID) |
| A-45 |
有機溶剤(2成分以上)(3M、スペルコ等) |
個人曝露 |
GC(FID) |
| A-46 |
有機溶剤(1成分)(2層式3M) |
個人曝露 |
GC(FID) |
| A-47 |
有機溶剤(2成分以上)(2層式3M) |
個人曝露 |
GC(FID) |
| A-48 |
VOC(5成分以内)(3M、スペルコ等) |
個人曝露 |
GC/MS |
| A-49 |
VOC(5成分以内)(3M、スペルコ等) |
個人曝露 |
GC/MS |
| A-50 |
VOC(32成分以内)(スペルコ) |
個人曝露 |
GC/MS |
| A-51 |
VOC(32成分以内)(スペルコ) |
個人曝露 |
GC/MS |
| A-52 |
ベンゼン |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
1(ppm) |
1.0/0.1**(ppm) |
0.5(ppm) |
| A-53 |
硫酸ジメチル |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
0.1(ppm) |
0.1(ppm) |
0.1(ppm) |
| A-54 |
硫酸ジエチル |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
| A-55 |
硫酸ジメチル+硫酸ジエチル |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
| A-56 |
エピクロロヒドリン |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
0.5(ppm) |
| A-57 |
1,3-ブタジエン |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
2(ppm) |
| A-58 |
1,3-ブタジエン(2層式) |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
2(ppm) |
| A-59 |
ο-フタロジニトリル |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
(0.01)(mg/m3) |
| A-60 |
アクリロニトリル |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
2(ppm) |
2(ppm) |
2(ppm) |
| A-61 |
フッ化水素 |
気中、個人曝露 |
吸光光度法 |
0.5(ppm) |
3*(ppm) |
0.5(ppm) |
| A-62 |
シアン化水素 |
気中、個人曝露 |
吸光光度法 |
3(ppm) |
5(ppm) |
4.7(C)(CNppm) |
| A-63 |
シアン化ナトリウム、シアン化カリウム |
気中、個人曝露 |
吸光光度法 |
3(mgCN/m3) |
5*(mgCN/m3) |
5(C)(mgCN/m3) |
| A-64 |
硫化水素 |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
5(ppm) |
5(ppm) |
(10)(ppm) |
| A-65 |
塩化水素 |
気中、個人曝露 |
IC |
5*(ppm) |
2(C)(ppm) |
| A-66 |
硫酸 |
気中、個人曝露 |
IC |
1*(mg/m3) |
0.2(T)(mg/m3) |
| A-67 |
硝酸 |
気中、個人曝露 |
IC |
2(ppm) |
2(ppm) |
| A-68 |
二酸化窒素 |
気中、個人曝露 |
吸光光度法 |
検討中 |
3(ppm) |
| A-69 |
二酸化イオウ |
気中、個人曝露 |
IC |
検討中 |
0.25(STEL)(ppm) |
| A-70 |
ベンゾトリクロリド |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
0.1(C)(ppm) |
| A-71 |
塩化ベンジル |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
0.5(C)(ppm) |
| A-72 |
1-ブロモプロパン |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
10(ppm) |
| A-73 |
1,2,3-トリクロロプロパン |
気中、個人曝露 |
GC(ECD) |
10(ppm) |
| A-74 |
臭化ビニル |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
0.5(ppm) |
| A-75 |
アクリル酸エチル |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
5(ppm) |
| A-76 |
2,3-エポキシ‐1-プロパノール(グリシドール) |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
2(ppm) |
| A-77 |
フェノール |
気中、個人曝露 |
GC(FID) |
5(ppm) |
5(ppm) |
| A-78 |
メチル-2-シアノアクリレート(MCA) |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.2(ppm) |
| A-79 |
エチル-2-シアノアクリレート(ECA) |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.2(ppm) |
| A-80 |
MCA+ECA |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-81 |
クレオソート油 |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
| A-82 |
1,1-ジメチルヒドラジン |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.01(ppm) |
| A-83 |
ο-ニトロアニソール |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-84 |
ウレタン(カルバミン酸エチル) |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
| A-85 |
2-クロロ-1,3-ブタジエン(クロロプレン) |
気中、個人曝露 |
GC/ECD |
10(ppm) |
| A-86 |
1,4-ジクロロ-2-ブテン |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
0.005(ppm) |
| A-87 |
イソプレン |
気中、個人曝露 |
GC/FID |
| A-88 |
1,3-ジクロロプロペン |
気中、個人曝露 |
GC/MS |
1(ppm) |
| A-89 |
酢酸ビニル |
気中、個人曝露 |
GC/FID |
10(ppm) |
| A-90 |
ニトロトルエン(混合) |
気中、個人曝露 |
GC/NPD |
2(ppm) |
| A-91 |
ジニトロトルエン(混合) |
気中、個人曝露 |
GC/ECD |
0.2(mg/m3) |
| A-92 |
ο-及びρ-アニシジン |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.1(ppm) |
0.5(mg/m3) |
| A-93 |
4-クロロ-2-メチルアニリンとその塩酸塩 |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-94 |
4,4'-ジアミノジフェニルエーテル |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
| A-95 |
4,4'-メチルジアニリン |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
0.1(ppm) |
| A-96 |
2-メトキシ-5-メチルアニリン |
気中、個人曝露 |
HPLC(UV) |
注意:管理濃度と許容濃度、TLVは定義が異なりますのでご注意ください。また、これらの値は変更されますので、最新のもので御確認ください。
- a:2009年
- b:日本産業衛生学会勧告値(2009年度)
- c:2009年度
- E:E(管理濃度)=3.0/(1.19Q+1)、だたしQは遊離けい酸の含有率(%)
- F:繊維長5μm超、アスペクト比≧3:1
- R:呼吸性粒子
- I:吸入性粒子(ただし遊離けい酸については学会の規定による)
- T:ソーラシック粒子
- V:蒸気とエアロゾル
- C:天井値
- IFV:吸入性粒子と蒸気
- STEL:15分間上限値
- (e):元素
- (i):不溶性無機化合物
- (s):水溶性無機化合物
():括弧内の値は、この時点で暫定値であることを示す。
- *:最大許容濃度
- **:過剰発がん生涯リスクレベル10-3および10-4での評価値
- ***:当面管理すべき濃度
お問い合わせ
中央労働災害防止協会(中災防)
労働衛生調査分析センター 化学物質調査分析課
〒108-0014 東京都港区芝5-35-2 安全衛生総合会館8F
TEL:03-3452-0420 FAX:03-3452-4807