2012年2月 9日 (木)

TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 ポスター報告のご案内

既にご案内しています2012年2月14日開催のTIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 におけるポスター報告のリストができましたのでご案内致します。皆様の積極的なご参加をお待ちしています。申し込みはこちらからお願い致します。申し込みは随時受け付けます。また当日受付も致しますので直接講演会場でお申し込みください。(MNOIC研究企画 三原 孝士)


TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」

「ツール de MNOIC -先端NMEMS拠点見学と研究開発ツール紹介-」


開催日:2012年2月14日(火曜日) 13時20分から17時10分
(但し、MNOIC装置見学会は11時20分から12時15分まで)
開催地:産総研・東事業所 NMEMSイノベーション棟(4G棟)
国際セミナー室(1F ロビー横)
連絡先およびアクセス:つくば開発センター
掲載:こちら
主催:一般財団法人マイクロマシンセンター MNOIC
共催:集積マイクロシステム研究センター(独立行政法人・産業技術総合研究所)
後 援:つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議

4. 第四部 ポスターセッションとMNOIC個別相談会 (16:10-17:1 0)
・ 場所:国際セミナー室にて
(MNOIC個別相談は4F MNOIC研究居室にて)
・世界最先端大口径MEMS製造装置群のポスターご紹介
・UMEMSME関連の最先端研究状況ポスターおよび関連技術展示
・MNOIC個別相談会(ご希望者は申し込み時、あるいは受付時にお申し込みください。):4F MNOIC研究居室にて)

以下、ポスター報告のリストです。

   装置名  会社名 展示概要
 1 ウェハ洗浄装置ほか (株)日立ハイテクトレーディング ウェハのセミオートスピン洗浄・乾燥装置
 2 異方性エッチング装置ほか (株)カナメックス ウェハ揺動による高均一性エッチング
 3 マスク露光装置、接合装置 イーヴィグループジャパン(株) 高段差対応、両面アライメント、プロキシミティ露光
 4 マスクレス露光装置 東芝機械(株) 大口径ウェハへのDMDによるレーザスキャン直描
 5 TEOS-CVD、TSVへの応用 サムコ(株) 高アスペクトTSVに適した低温SiO2プラズマCVD成膜
 6 縦型炉 光洋サーモシステム(株) カセットツーカセット25枚バッチ半量産装置
 7 ICPドライエッチング装置 パナソニック(株) 低フットプリント、SiO2・メタルICPドライエッチング
 8 大口径Si深堀ドライエッチ装置 SPPテクノロジーズ(株) 8インチ、12インチボッシュプロセスDeepRIE装置
 9  犠牲層ドライエッチ装置 キャノンマーケティングジャパン(株) SiO2犠牲層リリースエッチング、撥水膜コーティング装置
産業用X線CT装置 キャノンマーケティングジャパン(株) X線撮像による3D構造の非破壊評価装置
 10 光学検査装置 (株)モリテックス ウェハレベル自動光学顕微鏡観察欠陥検査装置
 11 チップtoウェハ/ウェハ接合装置 ボンドテック(株) プラズマクリーニングによるウェハレベル低温接合
 12 MEMSテスター エスティケイテクノロジー(株) セミオートウェハレベルプローバテスター
 13 MemsONE みずほ情報総研(株) 純国産のMEMS用設計解析支援システムソフトウェア
 14 ミニマルファブ (独)産業技術総合研究所 超小型ウェハによる枚葉処理半導体プロセス装置
 15 大面積電鋳金型技術 池上金型工業(株) 12インチ対応金型電鋳プロセス技術
 16  検討中 ナノクラフトテクノロジーズ(株)  検討中
 17  検討中 マリモ電子工業(株) 検討中
 18  検討中 (有)VIYIA 検討中
 19  検討中 (株)D-process 検討中

2012年2月 9日 (木) MNOIC/TIA | 固定リンク
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