百瀬 健

基本情報

所属

熊本大学 半導体・デジタル研究教育機構 教授

学位

博士(工学)(2009年9月 東京大学)

J-GLOBAL ID

201301082458025212

researchmap会員ID

B000229553

外部リンク

http://www.fpelab.cs.kumamoto-u.ac.jp

研究キーワード

• 薄膜
• プロセス工学
• 反応工学
• 材料学
• 半導体デバイス
• 超臨界流体
• 超臨界流体薄膜堆積法(SCFD)
• 原子層堆積(ALD)
• 化学気相堆積(CVD)

研究分野

• ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 反応工学、プロセスシステム工学 /
• ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 /
• ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / 半導体
• ナノテク・材料 / 材料加工、組織制御 /

経歴

• 2026年6月 - 現在

  台湾国立中興大学, 工学部, 客員教授
• 2026年5月 - 現在

  熊本大学, 半導体リスキリングセンター, 講座長
• 2025年4月 - 現在

  熊本大学, 半導体・デジタル研究教育機構, 学長特別補佐
• 2023年4月 - 2024年3月

  熊本大学, 半導体・デジタル研究教育機構, 准教授
• 2016年4月 - 2023年3月

  東京大学, 大学院工学系研究科, 講師
• 2011年7月 - 2016年3月

  東京大学, 大学院工学系研究科, 助教
• 2011年4月 - 2011年6月

  東京大学, 大学院工学系研究科, 特任助教
• 2009年10月 - 2011年3月

  東京大学, 生産技術研究所, 特任助教
• 2008年10月 - 2009年9月

  東京大学, 生産技術研究所, 特任研究員

委員歴

• 2026年 - 現在

  AP-ALD 2026, Program Committee
• 2026年 - 現在

  KALD International Advisory Board
• 2026年 - 現在

  応用物理学会原子層プロセス研究会 副代表
• 2025年 - 現在

  Taiwan-Japan Workshop, Committee
• 2025年 - 現在

  くまもとグリーンイノベーション協議会, 人材育成部会委員
• 2023年 - 現在

  化学工学会 エレクトロニクス部会 幹事
• 2023年 - 現在

  化学工学会 超臨界流体部会 部会連携委員
• 2022年 - 現在

  応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 幹事
• 2022年 - 現在

  応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 多層配線システム研究委員会 委員
• 2021年 - 現在

  電気化学会 電子材料委員会 監事
• 2019年 - 現在

  Advanced Metallization Conference (ADMETA Plus), General Arrangements Committee
• 2016年 - 現在

  化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会 幹事
• 2014年 - 現在

  化学工学会 超臨界流体部会 幹事
• 2026年

  Dry Process Symposium, Program Committee
• 2024年 - 2025年

  第17回JAFOE 日米先端工学シンポジウム (2025)., Sesseion Chair "Heterogeneous Integration in Semiconductors"
• 2018年 - 2024年

  化学工学会 反応工学部会 若手の会(反好会) 代表幹事
• 2018年 - 2024年

  化学工学会 反応工学部会 役員
• 2014年 - 2024年

  化学工学会 超臨界流体部会 材料・合成分科会サブリーダー
• 2019年 - 2023年

  化学工学会 化学工学会誌編集委員
• 2022年

  International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2022), Steering Committee

受賞

• 2026年7月

  KUMAMOTO TECH CHALLENGE 2026 最優秀賞, KUMAMOTO TECH ALLIANCE(熊本県、熊本大学、熊本県工業連合会、肥後銀行の4者)
• 2026年3月

  令和7年度優秀教育者表彰(ティーチングアワード), 熊本大学工学部
• 2025年9月

  令和7年度電気学会九州支部支部長賞, 一般社団法人 電気学会

  佐内晴太郎
• 2025年9月

  令和7年学生奨励賞, 化学工学会CVD反応分科会

  小田翔太
• 2025年3月

  令和6年度熊本大学工学部表彰, 熊本大学

  嶽本勇樹
• 2025年3月

  第27回化学工学会学生発表会優秀賞, 化学工学会

  小田翔太, 近藤澄弥, 中村有沙, 百瀬健
• 2025年3月

  令和6年度優秀教育者表彰(ティーチングアワード), 熊本大学工学部
• 2024年3月

  2023年度化学工学会部会活動貢献賞(部会CT賞), 超臨界流体部会における部会活動の企画、運営と活性化への顕著な貢献, 化学工学会

  超臨界流体部会材料合成分科会(笘居高明,百瀬健)
• 2012年3月

  平成23年度化学工学会研究奨励賞(内藤雅喜記念賞), 超臨界流体を用いた金属薄膜堆積プロセスの構築, 化学工学会

  百瀬 健
• 2011年9月

  平成23年度若手奨励賞, 超臨界Cu薄膜堆積プロセスの体系的理解に基づくウェハスケール反応器設計, 化学工学会CVD反応分科会

  百瀬健
• 2011年9月

  ADMETA Poster Award 2011, Mass Production Reactor design for Cu Interconnects on 12-inch Wafers Using Supercritical Fluid Deposition, Advanced Metallization Conference

  Takeshi Momose

論文

• Kinetic analysis and steric-hindrance effects in thermal atomic layer deposition of high-purity cobalt films with dicobalt hexacarbonyl tert-butylacetylene as the precursor

  Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Naoki Tamaoki, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  Journal of Vacuum Science & Technology A 43(6) 2025年11月11日 査読有り
• Development of Time-Lag Method on Barrier Properties Evaluation of Ultrathin PVD-Co(W) Films against Cu Diffusion

  Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ECS Journal of Solid State Science and Technology 14(10) 104006-104006 2025年10月1日 査読有り
• Surface Reaction Kinetics of Chemical Vapor Infiltration of SiC from CH₃SiCl₃/H₂ Revealed Using Ultradeep Microchannels

  Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Hidetoshi Sugiura, Takuya Nakahara, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ACS Applied Engineering Materials 3(9) 3065-3082 2025年9月17日 査読有り
• Thermal Atomic Layer Etching of Cobalt Using Sulfuryl-chloride and Hexafluoroacetylacetone

  Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ECS Journal of Solid State Science and Technology 14(9) 094003-094003 2025年9月1日 査読有り
• Theoretical study on gas-phase reactions during chemical vapor deposition of TixAl1-xN from TiCl4, AlCl3, and NH3

  Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Masahiro Koto, Hayato Kubo, Takanori Sugiyama, Takahito Tanibuchi, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  International Journal of Chemical Kinetics 57(1) 3-15 2024年7月9日 査読有り
• Investigation of Cu barrier properties of 1-nm-thick PVD-Co(W) films as a single liner/barrier in next-generation ULSI-Cu interconnect

  Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  2024 ieee international interconnect technology conference, iitc 2024 2024年
• Atomic Layer Deposition of Cobalt Film from Dicobalt-hexacarbonyl-tert-butylacetylene and Hydrogen

  Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ECS Journal of Solid State Science and Technology 12(11) 114003-114003 2023年11月1日 査読有り
• Effect of layer structure of AlN interlayer on the strain in GaN layers during metal-organic vapor phase epitaxy on Si substrates

  Momoko Deura, Takuya Nakahara, Wan Chi Lee, Takeshi Momose, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama, Yukihiro Shimogaki

  Journal of applied physics 133(16) 2023年4月28日 査読有り
• Kinetic Study on Heterogeneous Nucleation and Incubation Period during Chemical Vapor Deposition

  Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  The Journal of Chemical Physics 158(12) 124704-1-12 2023年3月 査読有り
• Supercritical fluid deposition for conformal Cu film formation on sub-millimeter-scale structures used to fabricate terahertz waveguides

  Yuyuan Huang, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

  Applied physics express 15(7) 2022年7月1日 査読有り最終著者責任著者
• Identifying the mechanism of formation of chlorinated silane polymer by-products during chemical vapor infiltration of SiC from CH<inf>3</inf>SiCl<inf>3</inf>/H<inf>2</inf>

  Noboru Sato, Yasuyuki Fukushima, Kohei Shima, Yuichi Funato, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

  International journal of chemical kinetics 54(5) 300-308 2022年5月 査読有り
• Suitability of metallic materials for constructing metal-coated dielectric terahertz waveguides

  Yuyuan Huang, Kuniaki Konishi, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Junji Yumoto, Makoto Kuwata-Gonokami, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

  Journal of applied physics 131(10) 2022年3月14日 査読有り最終著者責任著者
• Conformal and Stoichiometric Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide onto Ultradeep Heterogeneous Micropores by Controlling the Initial Nucleation Stage

  Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ACS Applied Materials & Interfaces 13(44) 53009-53020 2021年11月10日 査読有り
• Development of a model for evaluating propagation loss of metal-coated dielectric terahertz waveguides

  Yuyuan Huang, Kuniaki Konishi, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Junji Yumoto, Makoto Kuwata-Gonokami, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

  Journal of applied physics 130(5) 2021年8月7日 査読有り最終著者責任著者
• Drop-in test structure to evaluate residual stress in conformally grown films

  Naoto Usami, Etsuko Ota, Akio Higo, Takeshi Momose, Yoshio Mita

  IEEE transactions on semiconductor manufacturing 34(3) 270-277 2021年8月 査読有り
• Kinetic analysis of face-centered-cubic Ti<inf>1−</inf><inf>x</inf>Al<inf>x</inf>N film deposition by chemical vapor deposition

  Momoko Deura, Hiroki Sato, Jun Yamaguchi, Tomoko Hirabaru, Hayato Kubo, Takeshi Momose, Takahito Tanibuchi, Yukihiro Shimogaki

  Materials science and engineering: B 264 2021年2月 査読有り
• Elementary gas‐phase reactions of radical species during chemical vapor deposition of silicon carbide using CH₃SiCl₃

  Noboru Sato, Yuichi Funato, Kohei Shima, Hidetoshi Sugiura, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

  International Journal of Chemical Kinetics 53(5) 638-645 2021年1月11日 査読有り
• Porous Membranes as Sacrificial Layers Enabling Conformal Chemical Vapor Deposition Involving Multiple Film-Forming Species

  Kohei Shima, Yuichi Funato, Noboru Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ACS Applied Materials & Interfaces 12(45) 51016-51025 2020年10月30日 査読有り
• Modeling of the elementary gas-phase reaction during chemical vapor deposition of silicon carbide from CH<inf>3</inf>SiCl<inf>3</inf>/H<inf>2</inf>

  Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

  International journal of chemical kinetics 52(6) 359-367 2020年6月1日 査読有り
• Hot-wire-assisted atomic layer deposition of high-quality Ru thin films in the absence of oxidization

  Guangjie Yuan, Hideharu Shimizu, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ECS journal of solid state science and technology 9(2) 2020年1月17日 査読有り

MISC

• 超臨界CO₂中での電気化学反応場構築のためのマイクロエマルション条件の探査

  金崎正悟, 森駿介, 明石優志, 國武雅司, 百瀬健

  日本化学会春季年会講演予稿集(Web) 106th 2026年
• CO₂直接電解還元を目指した超臨界CO₂両連続マイクロエマルション電気化学

  森駿介, 金崎正悟, 明石優志, 國武雅司, 百瀬健

  日本化学会春季年会講演予稿集(Web) 106th 2026年
• ヒドラジンを活用したSiN-ALDの高スループット化と選択成長の実現

  村田逸人, 村田逸人, 和田吉史, 清水秀治, 百瀬健

  応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 73rd 2026年
• 高温超臨界CO₂/H₂中における有機金属化合物の飽和溶解度および拡散係数の同時測定手法の構築

  小田翔太, 中村有沙, 近藤澄弥, 百瀬健

  化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 56th 2025年
• 高熱伝導率を有するAlN膜の研究と先端3D Chipletへの応用

  高木剛, 高木剛, 二宮健生, 二宮健生, 丹羽正昭, 丹羽正昭, 小原聡顕, 百瀬健, 百瀬健, 霜垣幸浩 …

  電子情報通信学会技術研究報告(Web) 124(242(SDM2024 54-64)) 2024年
• "Development of Molybdenum Atomic Layer Deposition Process for Next Generation ULSI Interconnect"

  Haonan Liu, Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "In Situ observation of initial stage of Cobalt ALD using reflected light measurement"

  Shunsuke Kimura, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "Examination of Co-ALD process using CCTBA precursor"

  Jun Yamaguchi, Noboru, Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "Study of Cu precursors Adsorption Behavior on Cu (111) Surface by Density Functional Theory"

  Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Haonan Liu, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "Investigation of oxidation impact on Cu diffusivity in ultra-thin PVD-Co(W) films"

  Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "Study of estimating vapor pressure of metal complex with COSMO-SAC method and its improvement"

  Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Wu Yuxuan, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
• "Development of low-resistivity copper thin film formation process on polymer using supercritical fluid deposition"

  Yusuke Nakajima, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

  ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月 最終著者
• 高下地選択性Co-ALDプロセス設計のための可視光反射率その場観察手法の構築

  木村俊介, 山口潤, 佐藤登, 百瀬健, 霜垣幸浩

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
• 理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける表面反応モデルの改良

  佐藤登, 木村俊介, 大高雄平, 脇山知也, 福島康之, 百瀬健, 霜垣幸浩

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
• 超臨界流体薄膜堆積法を用いた誘電体上の低抵抗率銅薄膜形成に向けた前処理条件の検討

  中嶋佑介, HUANG Yuyuan, 霜垣幸浩, 百瀬健

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
• タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価

  百瀬健, KIM Taewoong, DENG Yubin, 出浦桃子, 松尾明, 山口述夫, 霜垣幸浩

  電子情報通信学会技術研究報告(Web) 121(366(SDM2021 74-79)) 2022年
• SiC/Si基板上に成長した窒化物半導体層内ボイドの形成メカニズム

  奥友則, 百瀬健, 霜垣幸浩, 出浦桃子

  応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 69th 2022年
• Co-ALDプロセスにおける原料の比較検討

  山口潤, 佐藤登, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
• MTS/H₂を原料としたSiC-CVIにおけるSiCl₄添加による微細構造内製膜均一化の原因考察

  大高雄平, 木村俊介, 佐藤登, 福島康之, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
• 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスの表面反応モデル構築

  佐藤登, 古藤雅大, 久保隼人, 杉山貴悟, 出浦桃子, 百瀬健, 谷渕栄仁, 霜垣幸浩

  化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年

書籍等出版物

• 高圧力の科学・技術事典

  (担当:分担執筆)

  朝倉書店 2022年11月 (ISBN: 9784254102970)
• 薄膜作製応用ハンドブック

  (担当:分担執筆)

  エヌ・ティー・エス 2020年2月 (ISBN: 9784860436315)
• 最新実用真空技術総覧 = New practical vacuum technology

  (担当:分担執筆)

  エヌ・ティー・エス 2019年2月 (ISBN: 9784860435592)
• 超臨界流体を用いる合成と加工

  (担当:共著)

  シーエムシー出版 2017年10月 (ISBN: 9784781312682)
• 超臨界流体技術の開発と応用

  (担当:分担執筆)

  シーエムシー出版 2014年7月 (ISBN: 9784781308906)

講演・口頭発表等

• "Electrochemistry in Supercritical CO2-based Bicontinuous Microemulsions"

  S. Kanazaki, M. Kunitake, T. Momose

  The International Conference on Supercritical Fluids 14th Supergreen 2026, August 3-6, 2026, Sapporo, Hokkaido, Japan.
• "Direct Electrochemical Reduction of CO2 in Supercritical CO2-Water Bicontinuous Microemulsions"

  S. Kanazaki, M. Kunitake, T. Momose

  The International Conference on Supercritical Fluids 14th Supergreen 2026, August 3-6, 2026, Sapporo, Hokkaido, Japan.
• "Pre-Treatment Strategies for Supercritical Fluid Deposition of Cu toward Low-Loss THz Waveguides: Supercritical Extraction and Oxygen Annealing"

  K. Uehara, M. Hirayama, T. Momose

  The International Conference on Supercritical Fluids 14th Supergreen 2026, August 3-6, 2026, Sapporo, Hokkaido, Japan.
• "Imaging Ellipsometry with LHAR Test Structure Characterizing ALD Conformality"

  H. Nishizato, Y. Nakaya, L. Jin, T. Momose

  AVS 26th International Conference on Atomic Layer Deposition Featuring the 13th International Atomic Layer Etching Workshop (ALD/ALE 2026),, June 28-July 1, 2026, Tampa, Florida.
• "On-Demand Precursor Delivery for Atomic Layer Deposition Using Machine Learning-Based Feedforward Control of Piezoelectric Valves"

  K. Ishiada, H. Nishizato, S. Oda, Y. Nakaya, K. Nasu, H. Okajima, T. Momose

  AVS 26th International Conference on Atomic Layer Deposition Featuring the 13th International Atomic Layer Etching Workshop (ALD/ALE 2026), June 28-July 1, 2026, Tampa, Florida.
• "Control of Selectivity in SiN ALD using Hydrazine"

  H. Murata, Y. Wada, H. Shimizu, T Momose

  Ares Selective Deposition Workshop (ASD 2026), March 29-April 1, 2026, Albany, New York. 2026年3月30日
• "TSV"

  Takeshi Momose

  International Microsystems, Packaging, Assembly and Circuits Technology Conference (IMPACT) 2025, October 22-24, Taipei, Taiwan. 2025年10月23日 招待有り
• "Supercritical fluid technologies for semiconductor fabrication"

  Takeshi Momose

  14th International Symposium on Supercritical Fluids and 9th International Solvothermal and Hydrothermal Association Conference (ISSF-ISHA 2025)(keynote) 2025年6月 招待有り
• 「高放熱性3D Chipletに向けた高熱伝導AlN膜の研究」

  高木剛, 二宮健生, 丹羽正昭, 小原聡顕, 百瀬健, 霜垣幸浩, 野村政宏, 藤岡洋, 森 正和, 黒田忠広

  電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 2025年2月19日 招待有り
• 「超臨界流体薄膜堆積法(SCFD)の基礎と反応工学を活用した高度化」

  百瀬 健

  薄膜材料デバイス研究会 第21回研究集会 2024年11月29日 招待有り
• 「高熱伝導率を有するAlN膜の研究と先端3D Chipletへの応用」

  高木剛, 二宮健生, 丹羽正昭, 小原聡顕, 百瀬健, 霜垣幸浩, 野村政宏, 藤岡洋, 森正和, 黒田忠広

  シリコンテクノロジー分科会第253回研究集会「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」 2024年11月7日 招待有り
• "High-Quality Co Thin Film by Thermal ALD Using CCTBA Precursor by controlling H2 Dose"

  Jun Yamaguchi, N. Sato, A. Tsukune, T. Momose, Y. Shimogaki

  AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024) 2024年8月
• "High thermal conductivity AlN films for advanced 3D Chiplets"

  T. Takagi, T. Ninomiya, M. Niwa, S. Obara, T. Momose, Y. Shimogaki, M. Nomura, H. Fujioka, M. Mori, T. Kuroda

  2024 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits 2024年
• "Investigation of Cu barrier properties of 1-nm-thick PVD-Co(W) films as a single liner/barrier in next-generation ULSI-Cu interconnect"

  Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC) 2024年
• "Enhancement of Co-ALD selectivity by vapor phase surface modification and ALE combination"

  Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhko Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  Area Selective Deposition Workshop (ASD) 2024 2024年4月
• "In Situ observation on the initial Co-ALD film growth using spectroscopic reflected light measurements"

  Shunsuke Kimura, Jun. Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiko Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

  Area Selective Deposition Workshop (ASD) 2024年4月
• Supercritical fluid deposition for semiconductors

  Takeshi Momose

  The Society of Chemical Engineering, Japan, 89th annual Meeting (international session) 2024年3月18日 招待有り
• 超臨界流体薄膜堆積法の基礎と半導体応用

  百瀬 健

  公益社団法人 新化学技術推進協会 2024年1月25日 招待有り
• 半導体集積地熊本での薄膜プロセス研究

  百瀬 健

  化学工学会東北支部夏季セミナー 2023年9月27日 招待有り
• タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価

  百瀬健, 金泰雄, 鄧玉斌, 出浦桃子, 松尾明, 山口述夫, 霜垣幸浩

  電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 2022年2月4日 招待有り

担当経験のある科目(授業)

• 2026年 - 現在

  半導体デバイス実習 (熊本大学)
• 2026年 - 現在

  半導体システム特別講義IA (熊本大学)
• 2025年 - 現在

  工学特別講義IV (熊本大学)
• 2025年 - 現在

  薄膜プロセス工学特論II (熊本大学)
• 2024年 - 現在

  半導体プロセスII (熊本大学)
• 2025年

  半導体システム特別講義II (熊本大学)
• 2025年

  学際科学特別講義II (熊本大学)
• 2025年

  学際科学特別講義I (熊大)
• 2025年

  半導体システム特別講義IB (熊本大学)
• 2025年

  薄膜プロセス工学特論 I (熊本大学)
• 2025年

  工学特別講義VI (熊本大学)
• 2025年

  工学特別講義III (熊本大学)
• 2025年

  工学特別講義II (熊本大学)
• 2025年

  工学特別講義I (熊本大学)
• 2025年

  半導体製造装置論II (熊本大学)
• 2025年

  半導体製造装置論I (熊本大学)
• 2025年

  半導体研究論 (熊本大学)
• 2025年

  地域における半導体産業II (熊本大学)
• 2025年

  地域における半導体産業I (熊本大学)
• 2021年 - 2022年

  初年次ゼミナール,AI支援による材料開発の最前線 (東京大学)

所属学協会

• 化学工学会
• 応用物理学会
• エレクトロニクス実装学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

• 社会課題解決を志向した革新的計測 ・解析システムの創出

  科学技術振興機構(JST) CREST 2025年4月 - 2030年3月

  代表:橋新剛
• 細胞内半導体チップによる動的生体情報計測デバイスの基盤構築

  木下記念財団 2026年4月 - 2028年3月

  代表:淺井理恵子
• 超臨界流体堆積法による半導体デバイス製造用成膜装置の自動化の実現に向けた研究開発

  内閣府地方大学・地域産業創生交付金 2025年4月 - 2028年3月
• マイクロエマルション電気化学による二酸化炭素の直接資源化

  高橋産業経済研究財団 研究助成 2026年4月 - 2027年3月