"la dépose de l'oxyde d'affnium est très délicate, et se fait par dépose d'un gaz sur un solide. Difficile à maîtriser."
Peut être que s'est délicat pour pas mal de paramêtres mais certainement pas par le fait que l'on dépose une couche sur un solide via un gaz. Tous les fabricants font cela depuis des décennies, on appèle cela CVD (Chemical Vapor Deposit) et une bonne partie des matériaux utilisés dans les processeurs sont déposé de cette manière.
[^] # Re: pas convaincu.
Posté par byrad . En réponse à la dépêche Gestion de l'énergie : se dépêcher de ne rien faire. Évalué à 6.
Peut être que s'est délicat pour pas mal de paramêtres mais certainement pas par le fait que l'on dépose une couche sur un solide via un gaz. Tous les fabricants font cela depuis des décennies, on appèle cela CVD (Chemical Vapor Deposit) et une bonne partie des matériaux utilisés dans les processeurs sont déposé de cette manière.