支援内容
名古屋大学は,ナノテクノロジーに関連する広範な技術領域およびそれらに必要となる各種材料群(半導体材料,磁性体材料,誘電体材料,セラミックス系材料,有機系材料など)に対して,最先端の薄膜形成技術,リソグラフィー技術,プラズマエッチング技術を保有しており,ナノ材料形成、ナノ構造形成、ナノデバイス形成などさまざまな支援を行うことができます.以下は支援内容の一例ですが,詳しくは以下の問い合わせ先へご連絡下さい.支援の流れについてはご利用方法をご覧下さい.
お問い合わせ先:
〒464-8603
名古屋市千種区不老町
名古屋大学 未来材料・システム研究所
加藤研究室内
Fax. 052-789-3153
e-mail: info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp
名古屋市千種区不老町
名古屋大学 未来材料・システム研究所
加藤研究室内
ARIM名古屋大学(微細加工)事務局
Tel. 052-789-3639Fax. 052-789-3153
e-mail: info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp
- 集積回路に向けたナノ構造形成プロセス技術と分析評価
- ナノ構造の作製と評価 〜産学官研究者に先端の研究環境を提供〜
- マイクロ・ナノ構造体の作製と評価 〜FIBによる微細加工とTEMによる高分解能観察〜
- ナノマグネティックスとスピントロニクス 〜金属ナノ材料・デバイス開発とその応用および磁気計測〜
その他,
・各種プラズマプロセスによる微細加工,表面処理支援
・半導体ナノ材料・デバイス開発支援
・セラミックス系,有機系薄膜・デバイス開発支援
も行っております.