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• 工作の依頼方法
• ストックルームの利用
• 利用料
• 各工作室の利用法
• 論文発表に関してのお願い
• 図面や技術情報の提供

装置開発室には機械工作、電子回路工作、微細加工(リソグラフィ)、3D造形に関する設備があり、 工作依頼を受けて実験装置の製作を行っています。工作の依頼だけでなく、設備を利用することもできます。
なお、社会連携研究部門に所属される方は別に定める料金を頂きます。

1.工作の依頼

(1)依頼の方法

下記受付担当者までご連絡ください。

機械工作	近藤 聖彦	B棟204号室	(内線7210)
回路工作	豊田 朋範	B棟201号室	(内線7212)
リソグラフィ	高田 紀子	C棟203号室	(内線7493)
3D造形	松尾 純一	B棟201号室	(内線7212)

依頼の際に工作方法、納期等の打ち合わせを行ないます。図面および資料等があれば打合せの際に持参ください。
(注1)

製作する装置に関して、実験の目的、装置の特徴、使用方法、製作する際の注意点、 新しい技術に関する事などを依頼者に説明して頂く事があります。 また実際に工作を行う際、工作担当者から再度依頼に関する説明をお願いすることがありますのでご協力をお願いします。

(注2)

緊急の場合も職員に直接ご相談ください。
工作物の具体的な図面は無い・実現したいシステムはあるがどのような形にすべきか決まっていないといった場合は、技術相談という形で各職員にコンタクトを取っていただき、その後に改めて工作依頼とする事もあります。

(2)製作・加工

製作・加工の工程で、装置開発ユニット職員による内作のほか、外部業者による外注加工を行うことがあります。
費用等については依頼者に相談いたします。

(3)引き渡し

完成後は装置開発ユニット職員が依頼者に連絡します。連絡を受けたらすみやかに受け取りに来て下さい。
研究室内で調整・試運転が必要と判断されるものについては、担当の職員が依頼者に協力してこれを行うことがあります。

2.ストックルームの利用

装置開発室には、機械・回路部品をストックしてある場所があります。
ストック品を出庫する場合は、設置された出庫手続き用のパソコンを使用して、所属、氏名、 品名、個数等を正確に入力してから持ち出して下さい。 出庫された部品の使用料金は、所属されている部門(研究グループ)に振替します。
部品の在庫不足などストックに関してお気づきの点は、装置開発ユニット職員にお申し出下さい。
ストックルームの場所およびストック部品については、以下の通りです。

場所 共同研究棟C棟(旧レーザーセンター棟)1階101室
◇ストック部品 機械工作部品 : ボルト、ナット等 回路工作部品 : 回路素子、各種ケーブル、乾電池等

3.装置開発室利用料

製作費、外注費立替及びストックルームの出庫代金は前年度後期分(10月〜3月分)を4月、当該年度前期分(4月〜9月分)を10月に研究グループ別に振替します。

4.各工作室の利用法

工作室によって利用方法が異なるため、利用の際にはご注意ください。
また以下のような利用時間区分があります。

工作室利用時間区分

[時間内利用]平日 8:30〜17:15
[時間外利用]平日 17:15〜翌日8:30 (安全のため2名以上で作業を行うこと)

機械工作室、回路工作室の時間外利用は安全上の理由のため禁止します。
リソグラフィ室については、クリーンルーム前室にある夜間利用簿に記載してください。
緊急の場合は各担当職員に相談してください。

(1)機械工作室

一般利用可能な工作機械リスト

材料取り用.....のこ盤・コンターマシン・高速切断機・シャーリング
ボール盤........卓上ボール盤4台
汎用旋盤........ワシノ4尺旋盤・理研精密旋盤(旧)
フライス盤.....牧野フライス盤(必要に応じて遠州フライス盤)
その他...........ショットブラスト装置・ベルトグラインダー・超音波洗浄機

利用手順

1.機械工作ができる服装をして下さい。
2.機械工作関係の職員に許可を申し出て下さい。必ず許可を得て、無断では使用しない様にして下さい。
・不在のときは他の装置開発ユニット職員に相談して下さい。
・所属と名前、工作の内容、使用する工作機械について申告して下さい。
3.記録ノートに記入して下さい。
4.作業帽子・安全眼鏡を職員から受け取り、作業中は受け取った帽子を必ず身につけて下さい。
職員はこの帽子によって許可の有無を確認します。周りで作業している人同士で確認をお願いします。
5.作業終了後は必ず使用した工具類の返却・整頓及び清掃をして下さい。
破損した工具がある場合は申し出て下さい。そのままにしておくと、他の人の迷惑になります。
6.作業終了の報告をして記録ノートに記入後、帽子・安全眼鏡を返却して下さい。

(2)回路工作室

共同研究棟B棟(旧装置開発棟)2 階 201 室にある一般利用者用作業台を利用できるほか、一部測定機器は工作室内での使用や貸し出しを行っています。
利用の際は、エレクトロニクス関係の職員(内線 7212)から許可を得てください。

(3)リソグラフィ室

以下の機器を利用できます。利用に関しては、takada@ims.ac.jp または内線7493(高田、木村)までご相談ください。
[マテリアル]の表示がある機器は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の支援装置です。 共同研究棟C棟1階 クリーンルーム

[マテリアル] 電子ビーム描画装置 ELS-G100(エリオニクス)

[マテリアル] マスクレス露光装置 DL-1000(ナノシステムソリューションズ)

[マテリアル] スピンコーター MS-A100(ミカサ)

[マテリアル] 段差計 P7(KLA-Tencor)

マイクロスコープ VHX-1000(キーエンス)

小型2源RFスパッタ装置 RSP-4-RF3x2(クライオバック)

マスクアライナ MA-10(ミカサ)

酸素プラズマ装置PR200、PDC-001-HP、PPC-32G(Harrick Plasma)

共同研究棟A棟201号室

[マテリアル] 三次元光学プロファイラー Nexview(ZYGO)

5.論文発表に際しての謝辞の明記について

装置開発室で製作依頼や機器・設備(技術指導や測定依頼なども含む)を利用されて成果を発表される場合は、 下記例文のような謝辞を付記していただくようお願いいたします。
詳細は2022年3月12日付で分子科学研究所 研究力強化戦略室よりお知らせしております「謝辞記載のお願い」をご参照ください。
また、論文が印刷された時には、別刷2部を御寄贈下さい。

6.図面や技術情報の提供

研究者等からの依頼により技術職員が設計・製作した装置には研究者および技術職員の創意工夫が含まれており、 これらが正当に評価・認識・保護されることは、研究者と技術職員との信頼関係を保ち、分子科学に係る技術開発を奨励するために必要です。
したがって、装置開発室で試作した装置に関する独創的技術情報を、研究発表や改良装置の試作等に使用する場合、また担当者以外に技術情報を提供する場合について以下のように取り決めます。

(1)事前に担当者間で打合せをし、使用法等につき合意の上使用する。
(2)研究発表に際しては、装置開発室担当者を共著者に含めるか、謝辞に相応の記述をする。
なお、後者の場合、論文が印刷された時には装置開発室に別刷りを寄贈する。
(3)公表されていない技術情報を担当者以外に提供する場合は、「技術開示に関する覚書」を作成した上で開示する。
(注) 「担当者」とは、装置の依頼者および設計・製作した技術職員を指す。

• 装置開発室の施設利用
• 製作依頼
• 論文発表に関してのお願い

装置開発室は、大学共同利用機関として、日本全国の分子科学および関連分野の研究者の方々に対して、 研究教育活動をサポートするため「装置開発室の施設利用」と「製作依頼」の2つの取り組みを行っています。

1.装置開発室の施設利用

研究装置の試作に必要な工作機械や測定機器など、装置開発室が保有する設備が利用できます。 施設利用に申請してください。 詳しくは、分子研WEBサイトの公募要項の「装置開発室施設利用」をご覧ください。

2.製作依頼

自然科学研究機構分子科学研究所装置開発室装置等製作受託規則に基づいてご利用いただけます。(2024年12月17日更新、2025年1月7日掲載)

3.論文発表に関してのお願い

共同利用・共同研究成果発表の際には、謝辞(acknowledgements)に助成機関名(「IMS」もしくは「Institute for Molecular Science」)ならびに課題番号を明記いただくようお願いいたします。また、論文が印刷された時には別刷2部を御寄贈下さい。
詳細は2022年3月12日付で分子科学研究所 研究力強化戦略室よりお知らせしております「謝辞記載のお願い」をご参照ください。以下、装置開発室が関係する場合の謝辞の記載例を引用します。 [引用]

分子研課題

A part of this work was performed with the aid of Equipment Development Center, Institute for Molecular Science (IMS program ***).

ナノテクノロジープラットフォーム事業による課題(ナノプラ)

A part of this work was conducted in Institute for Molecular Science, supported by Nanotechnology Platform Program (JPMXP09S**MS3***) of the Ministry of Education, Culture, Sport, Science and Technology (MEXT), Japan.

マテリアル先端リサーチインフラ事業による課題(ARIM)

A part of this work was conducted in Institute for Molecular Science, supported by Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology in Japan (JPMXP12**MS3***) of the Ministry of Education, Culture, Sport, Science and Technology (MEXT), Japan.

以下、2022年3月12日付「謝辞記載のお願い」より抜粋

• 2019年度通年・前期以前の採択課題: 課題採択西暦年度+半角ハイフン+3桁の採択課題番号(例 2018-123)
• 2019年度後期以降2021年度以前の採択課題: 半角ハイフン含む5桁の採択課題番号(採択通知にある通り、例 20-123)
• 2022年度以降の採択課題: 9文字の採択課題番号(採択通知にある通り、例 22IMS1234)

• 装置開発室の装置有償利用
• 製作依頼
• 図面や技術情報の提供
• 免責事項

1.装置開発室の装置有償利用

2.製作依頼

自然科学研究機構分子科学研究所装置開発室装置等製作受託規則に基づいてご利用いただけます。(2022年11月28日更新、2023年4月10日掲載)

3. 図面や技術情報の提供

別途ご相談ください。

4. 免責事項

装置開発室員は極力、ご要望に即した開発・製作に努めますが、開発・製作した物品およびその使用において、
有用性・目的適合性その他の特性を保証するものではありません。
またそれらを使用したことで損害が発生した場合、当該損害について一切の責任を負いません。