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NEDO 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構

第29回研究評価委員会

2012年3月16日

委員会概要

日時	平成23年10月14日(金)13時15分〜15時45分
場所	川崎日航ホテル「藤&楓の間」

資料

配布資料

資料1-1	第28回研究評価委員会議事録(204KB)
資料1-2	第28回研究評価委員会における主なコメント(84KB)
資料2	研究評価委員会名簿及び分科会会長名簿(今回審議案件)(118KB)
資料3-1	平成23年度中間・事後評価第29回研究評価委員会〈審議対象プロジェクトの総合評価一覧〉(227KB)
資料3-2-1	「革新型蓄電池先端科学基礎研究事業」中間評価報告書(案)概要(758KB)
資料3-3-1	「次世代輸送系システム設計基盤技術開発」事後評価報告書(案)概要(1.57MB)
資料3-3-2	「次世代半導体材料・プロセス基盤(MIRAI)プロジェクト」事後評価報告書(案)概要(1.62MB)
資料3-3-3	「微生物機能を活用した環境調和型製造基盤技術開発/微生物機能を活用した高度製造基盤技術開発」事後評価報告書(案)概要(1.25MB)
資料4-1	平成23年度中間・事後評価第29回研究評価委員会〈報告対象プロジェクトの総合評価一覧〉(278KB)
資料4-2-1	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発/資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発/副生ガス高効率分離・精製プロセス基盤技術開発」中間評価報告書(案)概要(1.58MB)
資料4-2-2	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発/資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発/触媒を用いる革新的ナフサ分解プロセス基盤技術開発」中間評価報告書(案)概要(807KB)
資料4-2-3	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発/資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発/規則性ナノ多孔体精密分離膜部材基盤技術の開発」中間評価報告書(案)概要(925KB)
資料4-3-1	「先端的SoC製造システム高度制御技術開発」事後評価報告書(案)概要(484MB)
資料4-3-2	「発電プラント用超高純度金属材料の開発」事後評価報告書(案)概要(657MB)
資料4-3-3	「新機能創出ガラスの加工技術開発プロジェクト/三次元光デバイス高効率製造技術」事後評価報告書(案)概要(2.01MB)
資料4-3-4	「新機能創出ガラスの加工技術開発プロジェクト/次世代光波制御材料・素子化技術」事後評価報告書(案)概要(1.28MB)
資料5	平成23年度分科会の設置について〈一部変更〉(案)(126KB)
資料6	平成24年度分科会の設置について(119KB)
参考資料	平成23年度中間及び事後評価対象事業評点結果一覧(133KB)

その他資料

議事録(387KB)

議事次第(90KB)

座席表(371KB)