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三菱ケミカルエンジニアリング株式会社

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半導体・電池・デバイス

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半導体・電池・電子デバイス製造のプロセスで必要となる薬液供給・回収システムを1983年より上市し、2,000システムを超える納入実績を有しています。薬液供給・回収システムのパイオニアとして常に品質と安全を最優先に考えた安心して使用いただけるソリューションをご提案します。

1半導体・電池・電子デバイス製造向け薬液供給システムのコア技術

加速度的なデジタル化により変革する社会を支え、急激に進化し続ける半導体・電池・電子デバイス製造の多様な用途に応じ、化学と電子産業で培い蓄積した幅広い技術で原料製造・薬液製造や薬液の供給・回収、リサイクル、リユースなどの最適なソリューションをご提案します。
回収・精製再利用や運転の省エネルギー化などの技術は、お客さまのESGやSDGs、カーボンニュートラルへの取り組みに貢献します。

[画像:プラント建設・運転で培ったプロセス構築技術、クリーン化・リサイクル・リユース技術、濃度調節・脱水技術、装置・ユニット化などの核心技術をベースに半導体・電池・電子デバイスの製造へ素材製造プラント建設、薬液供給システム、薬液精製リサイクルシステムを提供。]

2薬液の供給・回収・精製・濃度調整システムラインナップ

薬液供給システムのトップメーカーとして薬液を使用する製造工程の超微細化や高品質化に対応するシステムで製造品質の確保、製造コストの低減、環境負荷の低減に貢献します。対応する分野は、市場拡大が著しい電池の製造工程や電子デバイスの製品・素材など、ますます幅広い分野に最適なソリューションをご提案しています。

  • 薬液供給システム

    CDS:Chemical Distribution System

    グループ会社薬液メーカーである三菱ケミカルで培ったKnow-Howを活用し、高品質を維持しながら安全に各ユースポイントまで薬液を供給するシステムをご提供します。

    強み・特長

    • 低コスト、省スペース
      • 薬液の性状を良く理解し、最適なコスト・スペースをご提案します。
    • 環境負荷低減
      • 薬品使用量・廃棄物量を低減したリサイクル化を目指したご提案をします。
    • スキーム作り
      • システムだけではなく、廃棄物の引取り先まで含めたスキームについてもご提案します。

    用途

    半導体関連製造設備、液晶パネル関連製造設備、太陽電池パネル製造設備、Li電池製造設備等

  • スラリー供給システム

    SDS:Slurry Distribution System

    ポリッシングプロセスで使用されるスラリーの物性特性を安定させたまま、1台のスラリー供給システムから複数のユースポイントへの供給を可能にします。

    装置概要

    半導体・太陽電池の基板などに用いられる結晶の表面を化学機械的にポリッシングするためのポリッシングスラリーを供給する装置です。

    強み・特長

    • 多様化する各種スラリー(シリカベース、セリウムベース、アルミナベース等)の対応
    • スラリー物性を考慮した物性およびパーツ(タンク、ポンプ、バルブ等)の採用
    • 自動洗浄システムによる定期洗浄でのポリッシングプロセスの安定化
    • 低コスト、省スペース
      • 薬液の性状を良く理解し、最適なコスト・スペースをご提案します。
    • 大型容器の対応可能
    • 300mmプロセスへの適用実績多数あり

    用途

    半導体関連製造設備

  • 現像液濃度管理システム

    DRS:Developer Recycle System

    装置概要

    当社製品「現像液濃度管理システム」は、液晶パネルなどの現像工程で使用されるTMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)等各種薬液の濃度を適時調整することにより、現像レートを安定させながら現像液の消費を削減します。

    強み・特長

    • 炭酸塩を含まない真の現像液濃度ならびにレジスト濃度・炭酸塩濃度の管理
    • 現像レート(CD値)を一定に制御可能
    • 多成分濃度系による現像成分をリアルタイムでモニタリング
    • 廃液再利用率を100%達成により原料TMAH、希釈水(超純水)の大幅削減

    用途

    液晶パネルなどの現像工程で使用されるTMAH濃度、レジスト濃度、炭酸塩濃度の管理に使用されます。

    仕様

    お客さまの薬品使用量に合わせた供給システムがございます。

  • 現像液希釈システム

    DDS:Developer Dilution System

    半導体や液晶パネル製造の現像工程で使用される現像液を、お客さまの工場内で漸近法を用いて高精度に希釈します。濃度調整済み現像液に比べ、現像液のコスト大きく軽減できます。

    強み・特長

    • お客さまのニーズに合わせた濃度分析ユニットの提案
    • ±0.002wt%以下の希釈調合精度の保証(実績値±0.001wt%以下)
    • ジェット撹拌により混合時間の短縮
    • 最先端半導体工場への実績あり

    用途

    半導体関連製造設備、液晶パネル関連製造設備

  • フォトレジスト集中供給システム

    PRSS:Photo Resist Distribution System

    液晶パネル製造工程向けに大型容器を採用を可能にし、バブル(気泡)を含まない安定供給を達成します。

    強み・特長

    • 通い容器の大型化により薬液コストおよび容器交換頻度の削減が可能
    • 200L、1,000L容器による集中供給
    • フォトレジスト中に気泡を含まない供給が可能

    用途

    液晶パネル製造設備

  • 高純度精製システム

    HPPS:High purity purification system

    概要

    半導体用薬品を次世代製造プロセス向けに蒸留精製し、メタル濃度を一桁pptレベルまで低減させた超純度薬品を提供します。

    強み・特長

    • 一桁pptレベルのメタル濃度
    • 全自動運転
    • 省スペースなスキッドタイプ

  • 有機溶剤脱水回収システム

    OSDS:Organic Solvent Dehydration System

    ゼオライト浸透気化膜を使用して、有機溶剤を脱水・精製するシステムです。
    品質が不安定な有機溶剤をエレクトロニクスグレードに改質してから利用する等、さまざまな用途に使用できます。

    装置概要

    ゼオライト浸透気化膜を使用して、有機溶剤中の水分を選択的に除去します。
    グループ会社三菱ケミカル開発のMSM-1膜を使用することにより、従来のゼオライト膜で対応不可能だった酸性有機溶剤や、含水率の高い有機溶剤も安定的に処理することができます。
    また、イオン除去ユニットや蒸発ユニットを付加することにより、不純物を除去することも可能です。

    左:IPA回収精製システム(S111) 右:膜モジュール

    強み・特長

    • 浸透気化膜能力をフルに活用したコンパクトなシステム(ユニット化対応)
    • 耐熱、耐水、耐酸性に優れた高耐久性のセラミック膜の使用
    • 有機溶剤を高度に精製可能
    • 必要なユーティリティは電源および冷却水等(蒸気は必要ありません)
    • 長年の納入実績を反映した信頼性の高い安全システムを採用
    • 全自動から手動までさまざまなシステムが可能

    用途

    溶剤リサイクル、廃液減容化等

  • NMP精製システム

    NRS:NMP Refining System

    Liイオン2次電池製造工程から回収されたNMPを「全自動運転」のオンサイト精製設備で「高純度NMP」に「リサイクル」します。
    日本・中国で特許取得済み

    強み・特長

    • すべてのNMP回収方式(吸収、吸着、凝縮)に対応可
    • 精製NMP純度99.9wt%以上達成
    • オペレーティングコスト(UTT等)は、極わずか
    • 省スペースなスキッドタイプ
    • 全自動運転

    タイプ別処理能力

    右記の標準タイプ以外にも貴社ご要望の処理能力にあわせて設計、製作します。

    [画像:NMP精製システムの処理能力タイプ。]

    用途

    Liイオン2次電池製造設備

  • オンサイト薬液調合システム

    OMS:On-site Mixing System

    製造現場で使用する混合薬液をオンサイトで調合します。
    高精度インライン濃度測定装置を装備しており、薬液の濃度を高精度で制御しています。

    装置例

    • 12種または3種混酸を調合します。
      (設備納入実績)
      • Alエッチャント液:H3PO4+HNO3+CH3COOH
      • Siエッチャント液:HNO3+HF、HNO3+HF+CH3COOH
    • 2粉体または高濃度原液を希釈調合します。
      (設備納入実績)
      • ITOエッチャント液:(COOH)2 粉体
      • 現像液(カラーフィルター):Na2CO3 粉体
      • 剥離液(カラーフィルター):KOH 粉体

    強み・特長

    • 2種または3種混酸の調合システムが可能
    • 粉体から希釈調合システムが可能
    • 高精度インライン濃度測定装置装備
    • 物流費の削減に貢献

    用途

    液晶パネル製造関連設備、半導体関連製造設備

  • フッ酸リサイクルシステム

    HFRS:HF Recycling System

    当社の独自技術を駆使して限りある資源のリサイクルを実現します。

    設備概要

    • 液晶パネルのエッチング液をダイレクトにリサイクル処理
    • 液中の研磨スラッジを再生式特殊フィルターユニットで高性能分離
    • 液中の溶解不純物を除去
    • 高度濃度調整システムとの組み合わせで安定したエッチングレートを確保

    強み・特長

    • 濃厚液を希釈することなくダイレクト処理
    • 高リサイクル率による廃液量の大幅削減
    • 不純物除去
    • 高度濃度調整システムによる安定したエッチングレートを確保
    • 酸、強酸への応用も可能
      薬品使用量・廃棄物量を低減したリサイクル化を目指したご提案をします。

    設備納入実績

    液晶パネル関連製造設備等

    設備仕様

    • HFリサイクル率80%
    • 不純物除去率90%

  • セラミックエッチングシステム

    CES:Ceramic Etching System

    固体電池材料、負極材等のセラミック粉の表面処理、改質工程用のウェットエッチング装置

    強み・特長

    • 酸、アルカリ等あらゆる薬液に対応
    • 省スペース、コンパクトユニット装置
    • クリーン&セーフティプロセスデザイン
    • 粉体取り扱いを考慮しメンテナンスに優れた設計

3豊富なソリューションで素材・部材の工場建設

化学や医薬、フィルムや成形加工品製造等幅広い産業分野で培ったエンジニアリングソリューションで半導体・電池・電子デバイスに関わるあらゆる素材・部材製造の競争力強化に貢献します。

[画像:エンジニアリングソリューション:➀プロセス構築技術[有機化学プロセス、無機化学プロセス、加工プロセス、バイオプロセス]、➁解析技術[流体・流動・熱・構造解析、高度制御・クラスター解析、3Dシミュレーション、工法・コスト解析]、➂装置設計技術[反応(固-液、気-液)等、蒸留(各種省エネ型、充填物)、抽出(溶剤回収、樹脂吸着)、乾燥(スプレードライヤー等)、撹拌(スケールアップ技術)]、➃豊富なナレッジ[CODE, standard、法規 安全工学、設備管理、多種分野技術の融合]。高純度薬液工場、電池部材工場、電子部材工場、機能性フィルム工場、高機能塗料工場、パッケージ部材工場。]

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