TY - BOOK AU - 谷口, 研二 TI - シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで PB - リアライズ社 PY - 1991 EP - 422p UR - https://ci.nii.ac.jp/ncid/BN1064502X SN - 4947655445 ER -
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