テキスト ( 視覚 ) : 機器不用
シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二 [編]. -- 東京 : リアライズ社 , 1991.7. -- 422p ; 27cm. -- 各章末: 参考文献. -- ISBN 4947655445 ; (BN1064502X) ; https://ci.nii.ac.jp/ncid/BN1064502X
著者標目: 谷口, 研二 . -- 分類: NDC8 : 549.8 ; NDLC : ND371. -- 件名: NDLSH : シリコン(半導体)
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