著者名	書名	版表示	出版者名	出版年	シリーズ名	番号	ISBN	ISSN	URL
谷口, 研二 	シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで		リアライズ社	1991			4947655445		https://ci.nii.ac.jp/ncid/BN1064502X
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