TY - BOOK
AU - 谷口, 研二 
TI - シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで
PB - リアライズ社
PY - 1991
EP - 422p
UR - https://ci.nii.ac.jp/ncid/BN1064502X
SN - 4947655445
ER -
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