中性子照射法による高臨界電流密度を有する実用超伝導材料の試作

• • 寺井, 隆幸 テライ, タカユキ
• • 山脇, 道夫 ヤマワキ, ミチオ

• • 寺井, 隆幸 テライ, タカユキ
• • 山脇, 道夫 ヤマワキ, ミチオ

中性子照射法による高臨界電流密度を有する実用超伝導材料の試作

研究代表者 寺井隆幸

寺井隆幸, 2002.3

タイトル別名

平成11年度〜平成13年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

タイトル読み

チュウセイシ ショウシャホウ ニ ヨル コウリンカイ デンリュウ ミツド オ ユウスル ジツヨウ チョウデンドウ ザイリョウ ノ シサク

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• 東京大学 総合図書館

  A70:53180012597258

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平成11年度〜平成13年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

研究分担者: 山脇道夫 [ほか]

研究課題: 11558061