Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium

• • Mathad, G. S.
• • Hess, Dennis W.
• • Electrochemical Society. Industrial Electrolysis and Electrochemical Engineering Division

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• • Mathad, G. S.
• • Hess, Dennis W.
• • Electrochemical Society. Industrial Electrolysis and Electrochemical Engineering Division

Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium

editor, G.S. Mathad ; assistant editors, D.W. Hess ... [et al.]

(Proceedings / [Electrochemical Society], v. 99-30)

Electrochemical Society, c2000

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